抱歉，我們並不支援你正使用的瀏覽器。
為達至最佳瀏覽效果，請更新至最新的瀏覽器版本。
如有問題，歡迎電郵至 pccwmediaiapps@pccw.com 查詢。
為達至最佳瀏覽效果，請更新至最新的瀏覽器版本。
如有問題，歡迎電郵至 pccwmediaiapps@pccw.com 查詢。
廣告
【Now新聞台】中美在晶片領域角力之際，路透社引述消息人士報道，內地已經成功研發出EUV光刻機的原型機，目標最快三年後生產先進AI晶片。
美國近年收緊對華先進晶片出口限制，不過中國未來幾年或有能力生產先進AI晶片，長遠擺脫美國的牽制。
路透社引述消息人士報道稱，內地科學家今年初在深圳實驗室，打造出一部可以生產先進晶片的極紫外光EUV光刻機的原型機，目前處於測試階段，目標2028年用這部光刻機原型機產出晶片。但知情人士認為，較可行的時間應該是2030年，但仍然比外界估計要用最少十年時間快。
報道稱，中國招攬多名曾經任職荷蘭半導體巨頭艾斯摩爾的華裔工程師，透過逆向拆解和分析艾斯摩爾舊設備，研製出這部EUV光刻機，EUV光刻機能夠利用極紫外光，在矽片上刻出粗度只是人類頭髮幾千分之一的電路，生產出先進的高階晶片。
據報，艾斯摩爾是目前唯一掌握EUV技術的公司，每部EUV光刻機售價高達2.5億美元。報道又引述四名熟悉內地科技龍頭華為的人士稱，計劃由中國政府主導，但華為亦扮演一定角色，這項計劃被形容為中國版「曼哈頓計劃」，足以和美國二戰時研發核武的「曼哈頓計劃」相提並論。
美國近年向荷蘭施壓，阻止艾斯摩爾向中國出售光刻機，一旦計劃落實，意味中國有能力自行生產先進AI晶片，將目前主導市場的美國踢出供應鏈。
